什么是干膜？
干膜（Dry Film）是一种在半导体封装、电路板制造（PCB）、以及光刻加工中常用的感光性材料，属于光刻胶的一种，但和常见的液态光刻胶不同，它是以薄膜的形式存在的。干膜是预先涂布了感光光刻胶的塑料膜，在使用时通过热压覆膜（Laminate）的方式贴附在基板表面，经紫外光（UV）曝光显影后形成图形，然后进入蚀刻或电镀等后续工艺。之所以叫“干”膜，是相对于早期液态的“湿膜”（感光油墨）而言的。它是一种固态、薄膜状的感光材料，使用时不需烘干溶剂，直接通过加热加压贴合在板子上，因此更加清洁、方便，厚度也更均匀。干膜的结构组成？
干膜通常由三层组成，这种结构保证了它在使用前不会意外曝光或粘连：
中间层（支撑层/感光层）：这是核心层，由感光性高分子材料（如光聚合单体、粘合剂、光引发剂等）构成。平时它是可塑的，受到特定波长紫外线照射后会发生聚合反应（硬化）。
上层（载体层/聚酯薄膜）：一层较厚的保护膜，通常为聚酯（PET），作用是防止干膜在卷曲和运输时粘连，并在贴膜时保护感光层。贴膜后，这层通常会被揭掉（具体时机取决于工艺，有的是在曝光前揭，有的是在显影前揭）。
下层（保护层/聚乙烯薄膜）：一层较薄且软的保护膜，通常为聚乙烯（PE），直接接触感光层。在贴膜机将干膜压到板子上之前，这层膜会被实时剥离并收走。
干膜曝光的基本原理？
光化学反应机制：紫外光激活光引发剂→产生游离基→引发单体聚合交联→形成不溶于稀碱的大分子结构
影响干膜曝光成像质量的因素？
- 干膜本身的性能：分辨率，粘附力，感光灵敏度，膜厚均匀性等
怎么选择光源？
每种干膜都有特定的光谱吸收曲线，而每种光源也具有独特的光谱发射分布。若两者的峰值重合或大部分重叠，则曝光效果最佳。国产干膜吸收区主要集中在310–440 nm，匹配的理想光源一般为：高压汞灯：传统曝光机的标配。它在紫外波段有很强的发射谱线，尤其在365nm、405nm、436nm处强度很高，能很好地覆盖干膜的吸收范围。碘镓灯：也称为金属卤化物灯。它的光谱经过特殊调配，在350nm-450nm波段有非常强的辐射强度，是目前很多高性能曝光机的主流选择，特别适合对曝光速度和要求较高的场景。-镝灯：同样在干膜敏感的310nm-440nm波段有较大辐射强度，也是一种可选的高强度紫外光源。新型LED UV光源：这是近年来快速普及的技术。LED光源的最大优势是发出高度单色光，可精准控制在365nm或385nm/395nm等特定波长。因为光谱纯净，没有红外热辐射，能极大减少底片受热变形，且节能、寿命长，是精细线路曝光的理想选择。
